CSUPREM

CSUPREM

 

 

CSUPREM (Crosslight-SUPREM) 是一种改良斯坦福大学集成电路实验室所研发的SUPREM.IV GS程序用于工艺仿真的软件,SUPREM.IV.GS (2D)超过十年以来一直是被业界公认的标准集成电路(IC)工艺模拟软件,Crosslight将来自斯坦福大学的原始的程序加以改良,将软件从2D仿真延伸至3D仿真。

 

 

 

 

计算模型和特性

 

  • 2D、准3D、混合3D、全3D工艺仿真模型
  • 完善的离子注入模型
  • 各种刻蚀模型(各向异性等)
  • 共形沉积
  • 完善的扩散模型
  • 包含应力效应和体积膨胀的干氧和湿氧化模型
  • GPU加速运算器
  • 经AutoTCAD与Design of Experiments
  •  (DOE) 进行器件最佳化批次处理

器件应用

 

  • MOSFET
  • LDMOS/环形跑道栅极
  • 应力硅和锗硅器件
  • BJT
  • HBT
  • 三维互联结构
  • VDMOS
  • HexFET
  • IGBT
  • ESD
  • JFET
  • MESFET
  • FinFET
  • MEMS
  • 各类化合物半导体器件结构建模

 

用户界面工具

 

  • MaskEditor: 一步到位3D布局模拟编辑器
  • SimuCSuprem: 内建时时帮助的模拟编辑器
  • CrosslightView: 整合型工艺与器件模拟绘图界面

 

 

 

关于Crosslight TCAD的详细介绍请参考这里的  影片手冊

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